行业解决方案

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MOCVD自动控制系统

发布时间:2015-01-15

 

MOCVD(金属有机化学气相沉积)是以Ⅲ族、Ⅱ族元素的有机化合物和V、Ⅵ族元素的氢化物等作为晶体生长源材料,以热分解反应方式在衬底上进行气相外延,生长各种Ⅲ-V族、Ⅱ-Ⅵ族化合物半导体以及它们的多元固溶体的薄层单晶材料。是制造超薄层微结构(低维半导体材料)最常用、成本较低、生产量大的设备方法之一。

系统原理
控制系统总体分为源供给系统、气体输运系统、反应室加热系统、尾气处理系统、安全保护及报警系统五大部分;核心控制功能为温度控制及气体流量控制。

 

系统配置
自动化控制器: e-Control PLC,是控制系统的核心硬件平台。
人机界面硬件: TPC1503工业级15寸触摸式平板电脑,稳定可靠。
人机界面软件: NETSCADA组态软件开发平台,提供MOCVD相关功能模块。
 
系统特点:
工艺配方编辑功能强大,支持EXCEL导入导出;配方下载迅速,实时性强。
气态源、MO源及载气的用量自动计算,工艺配方自动执行,自动化程度高。
控制系统抗干扰能力强,温度/功率控制切换无扰动,温控精度高可达到±0.5℃。
系统自动生成批次号存储生产过程数据,可通过批次号快速查询,方便质量追溯。
多台设备组网方便,可轻松实现集中远程监控等网络化管理。